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CMP后清洗機-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

單晶圓/硅片/掩膜版清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

LSC4000 半導體晶圓清洗設備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC4000 掩模版兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

兆聲清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統配套機械手，也可以升級...

進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗...

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆...

NPC-3500（A）研發用等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠...

研發用等離子去膠機：Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片清洗。ASTRO96...

Q240微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

Q235微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

Q150微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

ASTRO96全自動微波等離子清洗系統：Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片...

AL76C立式微波等離子去膠清洗機：AL76C為一體式緊湊型等離子系統，適用于批量生產，也可以i滿足研發及實驗室應用。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要...

AL76微波等離子去膠清洗機：AL76等離子系統適用于批量生產，也可以i滿足研發及實驗室應用。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要、工業、醫藥等領域。AL...

AL18微波等離子去膠清洗機：AL18等離子系統適用于小批量生產和研發的*設備。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統是一款創新型的通用設備，...